Kobalto ir bismuto sulfidų sluoksnių, sudarytų pasikartojančios joninio sluoksnio adsorbcijos ir reakcijos metodu naudojantis Co(III) ir Bi(III) junginių koloidiniais tirpalais, savybės

Abstract

Naudojantis Co(III) ir Bi(III) junginių koloidiniais tirpalais, pasikartojančios joninio sluoksnio adsorbcijos ir reakcijos (PJSAR) būdu sudaryti kobalto ir bismuto sulfidų sluoksniai ant ABS (poliakrilnitrilobutadienstireno kopolimero) ir stiklo. Nustatyta, kad pirmojo ciklo kobalto ir bismuto sulfidų sluoksniai ant stiklo nėra ištisiniai. Pirmojo ciklo sluoksnių vidutinis storis priklauso nuo dengiamo pagrindo adsorbcinių savybių. Kitų ciklų kobalto ir bismuto sulfidų sluoksnių vidutinis storis yra 4–5 nm. Daugiaciklinės kobalto ir bismuto sulfidų plėvelės išlieka kompaktiškos. Dalelės, sudarančios kobalto ir bismuto sulfidų plėveles, didesnės kaip keli nanometrai. Kobalto ir bismuto sulfidų sluoksniai apibūdinti rentgeno fotoelektroninės spektroskopijos (RFES), atominės jėgos mikroskopijos (AJM), gravimetrinės analizės bei paviršinės kvadrato varžos matavimais.

Thin layers of cobalt sulphide and bismuth sulphide were deposited onto glass and ABS substrates using colloidal solutions of Co(III) and Bi(III) compounds by the so-called successive ionic layer adsorbtion and reaction (SILAR) method. It has been found that the thickness of one-cycle cobalt sulphide and bismuth sulphide layer depends on substrates adsorbtion properties. The average thickness of successive cobalt sulphide and bismuth sulphide layers is 4–5 nm. Multicycle cobalt sulphide and bismuth sulphide layers are compact. The size of cobalt sulphide and bismuth sulphide particles does not exceed a few nanometers. Cobalt sulphide and bismuth sulphide layers were studied using scanning atomic force microscopy, X-ray photoelectron spectroscopy, gravimetric analysis and layers square electric resistance measurements.