Rodyti trumpą aprašą

dc.contributor.authorGradauskas, Jonas
dc.contributor.authorStupakova, Jolanta
dc.contributor.authorSužiedėlis, Algirdas
dc.contributor.authorSamuolienė, Neringa
dc.date.accessioned2023-09-18T16:28:14Z
dc.date.available2023-09-18T16:28:14Z
dc.date.issued2015
dc.identifier.issn1063-7850
dc.identifier.other(BIS)VGT02-000031364
dc.identifier.urihttps://etalpykla.vilniustech.lt/handle/123456789/114255
dc.description.abstractWe have studied the rise of electromotive force (emf) across ohmic and nonohmic metal–porous silicon contacts under the action of 10-GHz microwave radiation. It is established that emfs of opposite polarities with different growth (and decay) rates are generated across the contacts of different types. The emf growth across the potential barriers of contacts is explained using a model of the microwave-induced heating of charge carriers. It is shown that the use of a porous semiconductor layer is a promising way to increase the voltage–power responsivity of microwave detectors and eliminate the “point contact” effects.eng
dc.formatPDF
dc.format.extentp. 1202-1204
dc.format.mediumtekstas / txt
dc.language.isoeng
dc.relation.isreferencedbyINSPEC
dc.relation.isreferencedbySpringerLink
dc.relation.isreferencedbyScience Citation Index Expanded (Web of Science)
dc.source.urihttp://link.springer.com/article/10.1134/S1063785015120202
dc.subjectFM03 - Fizinių, technologinių ir ekonominių procesų matematiniai modeliai ir metodai / Mathematical models and methods of physical, technological and economic processes
dc.titleDetecting microwave radiation on metal–porous silicon contacts
dc.typeStraipsnis Web of Science DB / Article in Web of Science DB
dcterms.references14
dc.type.pubtypeS1 - Straipsnis Web of Science DB / Web of Science DB article
dc.contributor.institutionVilniaus Gedimino technikos universitetas Valstybinis mokslinių tyrimų institutas Fizinių ir technologijos mokslų centras
dc.contributor.institutionVilniaus Gedimino technikos universitetas
dc.contributor.facultyFundamentinių mokslų fakultetas / Faculty of Fundamental Sciences
dc.subject.researchfieldT 001 - Elektros ir elektronikos inžinerija / Electrical and electronic engineering
dc.subject.researchfieldT 008 - Medžiagų inžinerija / Material engineering
dc.subject.researchfieldN 002 - Fizika / Physics
dc.subject.ltspecializationsL104 - Nauji gamybos procesai, medžiagos ir technologijos / New production processes, materials and technologies
dcterms.sourcetitleTechnical physics letters : an English translation of the journal ''Pis'ma w Zhurnal Tekhnicheskoi Fiziki''
dc.description.issueno. 12
dc.description.volumeVol. 41
dc.publisher.nameSpringer
dc.publisher.cityNew York
dc.identifier.doi10.1134/S1063785015120202
dc.identifier.elaba15213430


Šio įrašo failai

FailaiDydisFormatasPeržiūra

Su šiuo įrašu susijusių failų nėra.

Šis įrašas yra šioje (-se) kolekcijoje (-ose)

Rodyti trumpą aprašą