Show simple item record

dc.contributor.authorSuzanovičienė, Rasa
dc.contributor.authorTamaševičius, Remigijus
dc.date.accessioned2023-09-18T20:22:33Z
dc.date.available2023-09-18T20:22:33Z
dc.date.issued2004
dc.identifier.other(BIS)LBT02-000012694
dc.identifier.urihttps://etalpykla.vilniustech.lt/handle/123456789/149219
dc.description.abstractDarbe buvo tiriami SiO2 porėtieji sluoksniai ant Si padėklų, naudojant nul- elipsometrinę tyrimo metodiką. SiO2 patogu naudoti sluoksnius, kadangi tai yra termiškai stabili, mechaniškai tvirta medžiaga, gerai žinomos SiO2 optinės charakteristikos bei porėtuosius sluoksnius galima panaudoti kitų medžiagų interkaliacijai.lit
dc.format.extentP. 163-167
dc.format.mediumtekstas / txt
dc.language.isolit
dc.titlePorėtųjų SiO2 sluoksnių ant Si nul-elipsometrija
dc.typeStraipsnis nerecenzuotame konferencijos darbų leidinyje / Paper in a non peer-reviewed conference publication
dc.type.pubtypeP2 - Straipsnis nerecenzuotame konferencijos darbų leidinyje / Article in an un-reviewed conference proceedings
dc.contributor.institutionPuslaidininkių fizikos institutas Vilniaus universitetas
dc.contributor.institutionPuslaidininkių fizikos institutas Vilniaus Gedimino technikos universitetas
dc.subject.researchfieldN 002 - Fizika / Physics
dc.subject.ltPorėtieji SiO2 sluoksniai
dc.subject.ltZolis-gelis Technologija
dc.subject.ltNul-elipsometrija
dc.subject.enPorous SiO2 films
dc.subject.enSol-gel technology
dc.subject.enEllipsometric measurements
dc.publisher.nameTechnika
dc.publisher.cityVilnius
dc.identifier.doiVGT02-000008002
dc.identifier.elaba5441609


Files in this item

FilesSizeFormatView

There are no files associated with this item.

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record