Эволюция конфигураций самоформирующихся наноструктур
Abstract
The models is created and implemented for simulation of the evolution geometry micro- and nanostructures in the lateral etching processes for self-alignment technologies manufacture of semiconductor devices, integrated circuits (IC), micro- and nanosystems (MEMS/NEMS) on the basis of a personal computer with the processor INTEL PENTIUM 4 and MATLAB software [...]. В самосовмещающихся технологиях изготовления полупроводниковых приборов, интегральных схем (ИС), микро- и наносистем (МЭМС/НЭМС) для моделирования эволюции геометрии микро- и наноструктур в процессах самоформирования поперечного травления разработаны и применены компьютерные модели-программы, основанные на програмном пакете MATLAB. Результаты расчетов двумерного моделирования процессов самоформирования поперечного травления для разных начальных конфигураций микро- и наноструктур масок, скоростей и селективностей травления и толщин нижележащего поперечного травящегося слоя и экспериментальных исследований эволюции микроструктур из аморфных и поликристаллических пленок потвердили теоретические предложения моделей.