Porėtųjų SiO2 sluoksnių ant Si nul-elipsometrija

Abstract

Darbe buvo tiriami SiO2 porėtieji sluoksniai ant Si padėklų, naudojant nul- elipsometrinę tyrimo metodiką. SiO2 patogu naudoti sluoksnius, kadangi tai yra termiškai stabili, mechaniškai tvirta medžiaga, gerai žinomos SiO2 optinės charakteristikos bei porėtuosius sluoksnius galima panaudoti kitų medžiagų interkaliacijai.